| Kształt | Sferyczna |
|---|---|
| Rozmiar porów | 0,3-0,5 Nm |
| Kompozycja | Nikiel, kobalt, molibden, tlenek glinu |
| Selektywność reakcji | 95-98% |
| Wielkość | 1-3 mm |
| Regenerowalność | Można regenerować wielokrotnie bez znaczącej utraty aktywności |
|---|---|
| Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
| Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
| Temperatura pracy | 30-35°C |
| Zastosowanie | Selektywne uwodornienie węglowodorów C3 |
| Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
|---|---|
| Regenerowalność | Można regenerować wielokrotnie bez znaczącej utraty aktywności |
| Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
| Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
| Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
| Kształt | Sferyczna |
|---|---|
| Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
| Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
| Aktywny metal | Pallad (Pd) |
| Zastosowanie | Selektywne uwodornienie węglowodorów C3 |
| Kształt | Sferyczna |
|---|---|
| Ciśnienie | 3,5 MPa |
| Zastosowanie | Selektywne uwodornienie C2 |
| Temperatura pracy | 60-100°C |
| Selektywność | 80% |
| Kształt | Sferyczna |
|---|---|
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
| Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
| Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
| Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
|---|---|
| Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
| Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
| Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
| Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
| Rozmiar cząsteczki | 3-4,5 mm |
|---|---|
| Materiał nośnika | Glinka |
| Kształt | Sferyczna |
| Ciśnienie | 3,5 MPa |
| PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
| Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
|---|---|
| Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
| Regenerowalność | Można regenerować wielokrotnie bez znaczącej utraty aktywności |
| Temperatura pracy | 30-35°C |
| Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
|---|---|
| Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
| Aktywny metal | Pallad (Pd) |
| Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |