| PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
|---|---|
| Materiał nośnika | Glinka |
| Powierzchnia | 150-200 m2/g |
| Kształt | Sferyczna |
| Selektywność | 80% |
| Aktywny metal | Pallad (Pd) |
|---|---|
| Rozmiar cząsteczki | Wąski rozkład wielkości cząstek |
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
| Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
| Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
| Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
|---|---|
| Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
| Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
| Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
| Rozmiar cząsteczki | Wąski rozkład wielkości cząstek |
| Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
|---|---|
| Kształt | Sferyczna |
| Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
| Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
| Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
| Selektywność | 80% |
|---|---|
| Rozmiar cząsteczki | 3-4,5 mm |
| Objętość porów | 00,85-0,95 Cm3/g |
| Powierzchnia | 150-200 m2/g |
| Kształt | Sferyczna |
| Temperatura pracy | 60-100°C |
|---|---|
| Ciśnienie | 3,5 MPa |
| Selektywność | 80% |
| Aktywny metal | Paladium |
| PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
| Powierzchnia | 150-200 m2/g |
|---|---|
| PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
| Ciśnienie | 3,5 MPa |
| Selektywność | 80% |
| Zastosowanie | Selektywne uwodornienie C2 |
| Materiał nośnika | Glinka |
|---|---|
| Aktywny metal | Paladium |
| Temperatura pracy | 60-100°C |
| Kształt | Sferyczna |
| Rozmiar cząsteczki | 3-4,5 mm |
| Zastosowanie | Selektywne uwodornienie C2 |
|---|---|
| PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
| Kształt | Sferyczna |
| Materiał nośnika | Glinka |
| Temperatura pracy | 60-100°C |
| Powierzchnia | 150-200 m2/g |
|---|---|
| Kształt | Sferyczna |
| Aktywny metal | Paladium |
| Wielokrotnego użytku | - Tak, proszę. |
| Temperatura pracy | 60-100°C |