products
Είμαι Online Chat Now
Υπεύθυνος Επικοινωνίας : Bai Peng
Τηλεφωνικό νούμερο : +8618254266810
λέξεις-κλειδιά [ selective hydrogenation ] αγώνας 189 προϊόντα.
Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης για τον καταλύτη επιλεκτικής υδρογόνωσης C3 στο υλικό υποστήριξης οξειδίου του αλουμινίου Al2O3

Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης για τον καταλύτη επιλεκτικής υδρογόνωσης C3 στο υλικό υποστήριξης οξειδίου του αλουμινίου Al2O3

Τύπος καταλύτη Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης
Σχήμα Σφαιρικό
Δραστηριότητα Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3
Σταθερότητα Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Προσαρμόσιμος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 για ενισχυμένες αντιδράσεις υδρογόνωσης

Προσαρμόσιμος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 για ενισχυμένες αντιδράσεις υδρογόνωσης

Θερμοκρασία λειτουργίας 60-100°C
Πίεση 3.5Mpa
Επιλεκτικότητα 80%
Ενεργό μέταλλο Παλλάδιο
Βιομηχανία Χημική βιομηχανία
Ανώτατος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 80% επιλεκτικότητα Όγκος πόρων 0,85-0,95 Cm3/g

Ανώτατος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 80% επιλεκτικότητα Όγκος πόρων 0,85-0,95 Cm3/g

Περιοχή επιφάνειας 150-200 M2/g
Βιομηχανία Χημική βιομηχανία
Πίεση 3.5Mpa
Επιλεκτικότητα 80%
Εφαρμογή Επιλεκτική υδρογόνωση του C2
Επιφανειακή έκταση C3 Καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης με εξαιρετική σταθερότητα

Επιφανειακή έκταση C3 Καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης με εξαιρετική σταθερότητα

Περιοχή επιφάνειας Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Σταθερότητα Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις
Μέγεθος σωματιδίων Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων
Θερμοκρασία λειτουργίας 30-35°C
Καταλύτης πλατίνης C3 H2 με βελτιωμένη σταθερότητα και επιφανειακή έκταση για επιλεκτική υδρογόνωση

Καταλύτης πλατίνης C3 H2 με βελτιωμένη σταθερότητα και επιφανειακή έκταση για επιλεκτική υδρογόνωση

Τύπος καταλύτη Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Επιλεκτικότητα Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3
Σταθερότητα Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις
Περιοχή επιφάνειας Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα
Σφαιρικός καταλύτης παλλαδίου για επιλεκτική υδρογόνωση C2 στη χημική βιομηχανία

Σφαιρικός καταλύτης παλλαδίου για επιλεκτική υδρογόνωση C2 στη χημική βιομηχανία

Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Πίεση 3.5Mpa
Βιομηχανία Χημική βιομηχανία
Περιοχή επιφάνειας 150-200 M2/g
Σχήμα Σφαιρικό
Επιφανειακή έκταση Σφαιρική C3 Καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης Παλλάδιο Pd

Επιφανειακή έκταση Σφαιρική C3 Καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης Παλλάδιο Pd

Σχήμα Σφαιρικό
Μέγεθος πόρων Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων
Δραστηριότητα Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3
Περιοχή επιφάνειας Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα
Εφαρμογή Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3
3-4,5 mm Χημικός καταλύτης παλλαδίου για επιλεκτική υδρογόνωση 0,85-0,95 Cm3/g

3-4,5 mm Χημικός καταλύτης παλλαδίου για επιλεκτική υδρογόνωση 0,85-0,95 Cm3/g

Ενεργό μέταλλο Παλλάδιο
Μέγεθος σωματιδίων 3-4,5 mm
Βιομηχανία Χημική βιομηχανία
Πίεση 3.5Mpa
Υλικό υποστήριξης Αλουμινίου
Καινοτόμος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 για διαδικασίες επιλεκτικής υδρογόνωσης

Καινοτόμος καταλύτης επιλεκτικής υδρογόνωσης C2 για διαδικασίες επιλεκτικής υδρογόνωσης

Operating Temperature 150-250°C
Shape Spherical
Activity >90%
Pore Size 8-12 nm
Pore Volume 0.3-0.5 mL/g
Υψηλής αποτελεσματικότητας C3 επιλεκτικός καταλύτης υδρογόνωσης για μείωση MAPD στην παραγωγή προπυλενίου

Υψηλής αποτελεσματικότητας C3 επιλεκτικός καταλύτης υδρογόνωσης για μείωση MAPD στην παραγωγή προπυλενίου

Active Metal Palladium
Τύπος καταλύτη Ετερογενείς
Thermal Stability High
Particle Size 1-3 mm
Επιλεκτικότητα > 95%
< Previous 1 2 3 4 5 Next > Last Total 19 page