| Εγκατάσταση ενεργού συστατικού | ≥ 2 Wt% |
|---|---|
| Ενεργό συστατικό | Pd, Pt, Ni ή Co |
| Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
| Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |
| Θερμοκρασία λειτουργίας | 150-250°C |
| Υλικό υποστήριξης | Αλουμίνιο ή πυριτίου-αλουμίνιο |
|---|---|
| Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
| Πλήρης πυκνότητα | 00,65-0,75 G/cm3 |
| Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |
| Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
| Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
|---|---|
| Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
| Αναγεννησιμότητα | Μπορεί να αναγεννηθεί πολλές φορές χωρίς σημαντική απώλεια δραστηριότητας |
| Θερμοκρασία λειτουργίας | 30-35°C |
| Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο (Pd) |
|---|---|
| Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
| Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
|---|---|
| Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
| Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
| Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |
|---|---|
| Ενεργό συστατικό | Pd, Pt, Ni ή Co |
| Εμφάνιση | Γκρι ή μαύρα κυλινδρικά σωματίδια |
| Διάμετρος πόρων | 30-80 Å |
| Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
| Θερμοκρασία λειτουργίας | 150-250°C |
|---|---|
| Εμφάνιση | Γκρι ή μαύρα κυλινδρικά σωματίδια |
| Διάμετρος πόρων | 30-80 Å |
| Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
| Μέγεθος σωματιδίων | 1,5-3,0 mm |
| Περιοχή επιφάνειας | 100-200 M2/g |
|---|---|
| Εμφάνιση | Γαλάζιο κόκκο |
| Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C8/C9 |
| Ενεργό συστατικό | Παλλάδιο (Pd) |
| Θερμική σταθερότητα | Υψηλή |
| Σχήμα | Σφαιρικό |
|---|---|
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
| Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
|---|---|
| Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
| Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
| Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
| Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |