Μέγεθος σωματιδίων | 1-3 χιλ. |
---|---|
Εμφάνιση | Σκοτεινό γκρι έως μαύρο στερεό |
Περιοχή επιφάνειας | 100-200 M2/g |
Ενεργό συστατικό | Παλλάδιο (Pd) |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C8/C9 |
Υλικό υποστήριξης | Αλουμίνιο ή πυριτίου-αλουμίνιο |
---|---|
Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
Πλήρης πυκνότητα | 00,65-0,75 G/cm3 |
Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
---|---|
Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
Αναγεννησιμότητα | Μπορεί να αναγεννηθεί πολλές φορές χωρίς σημαντική απώλεια δραστηριότητας |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 30-35°C |
Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο (Pd) |
---|---|
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
---|---|
Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Περιεχόμενο υλικού υποστήριξης | ≥ 90 Wt% |
---|---|
Ενεργό συστατικό | Pd, Pt, Ni ή Co |
Εμφάνιση | Γκρι ή μαύρα κυλινδρικά σωματίδια |
Διάμετρος πόρων | 30-80 Å |
Επιλεκτικότητα υδρογόνωσης | ≥ 95% |
Θερμοκρασία λειτουργίας | 150-250°C |
---|---|
Εμφάνιση | Γκρι ή μαύρα κυλινδρικά σωματίδια |
Διάμετρος πόρων | 30-80 Å |
Όγκος πόρων | ≥ 0,35 ML/g |
Μέγεθος σωματιδίων | 1,5-3,0 mm |
Περιοχή επιφάνειας | 100-200 M2/g |
---|---|
Εμφάνιση | Γαλάζιο κόκκο |
Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C8/C9 |
Ενεργό συστατικό | Παλλάδιο (Pd) |
Θερμική σταθερότητα | Υψηλή |
Σχήμα | Σφαιρικό |
---|---|
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
---|---|
Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |