| Καθαρότητα | ≥ 98% |
|---|---|
| διάρκεια ζωής | 2 έτη |
| Διαλυτότητα | Αδιαλυτές στο νερό |
| Σφιχτότητα | 00,55 G/cm3 |
| Αποθήκευση | Αποθήκευση σε ξηρό μέρος |
| Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο (Pd) |
|---|---|
| Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
| Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Υλικό υποστήριξης | Οξείδιο του αλουμινίου (Al2O3) |
|---|---|
| Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
| Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
| Μέγεθος σωματιδίων | Διανομή στενού μεγέθους σωματιδίων |
|---|---|
| Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
| Περιοχή επιφάνειας | Υψηλή επιφάνεια για αποτελεσματική καταλυτική δραστηριότητα |
| Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
| Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
| Τύπος καταλύτη | Υποστηριζόμενος μεταλλικός καταλύτης |
|---|---|
| Σχήμα | Σφαιρικό |
| Δραστηριότητα | Υψηλή δραστηριότητα για υδρογόνωση C3 |
| Σταθερότητα | Εξαιρετική Σταθερότητα Υπό Δύσκολες Προϋποθέσεις |
| Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
| Σχήμα | Σφαιρικό |
|---|---|
| Μέγεθος πόρων | Ομοιόμορφη κατανομή μεγέθους πόρων |
| Επιλεκτικότητα | Υψηλής επιλεκτικότητας υδρογόνωση C3 |
| Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο (Pd) |
| Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση υδρογονανθράκων C3 |
| Επιλεκτικότητα | 80% |
|---|---|
| Μέγεθος σωματιδίων | 3-4,5 mm |
| Όγκος πόρων | 00,85-0,95 Cm3/g |
| Περιοχή επιφάνειας | 150-200 M2/g |
| Σχήμα | Σφαιρικό |
| Θερμοκρασία λειτουργίας | 60-100°C |
|---|---|
| Πίεση | 3.5Mpa |
| Επιλεκτικότητα | 80% |
| Ενεργό μέταλλο | Παλλάδιο |
| Βιομηχανία | Χημική βιομηχανία |
| Επαναχρησιμοποίηση | - Ναι, ναι. |
|---|---|
| Όγκος πόρων | 00,85-0,95 Cm3/g |
| Υλικό υποστήριξης | Αλουμινίου |
| Πίεση | 3.5Mpa |
| Βιομηχανία | Χημική βιομηχανία |
| Περιοχή επιφάνειας | 150-200 M2/g |
|---|---|
| Βιομηχανία | Χημική βιομηχανία |
| Πίεση | 3.5Mpa |
| Επιλεκτικότητα | 80% |
| Εφαρμογή | Επιλεκτική υδρογόνωση του C2 |